Plasmasensorik in gepulsten PACVD‐Plasmen | CU Experts

AbstractLangmuirsonden werden seit langem als grundlegendes Plasmadiagnosesystem zur Bestimmung lokaler Plasmaparameter wie Elektronen‐ und Ionendichte, Elektronentemperatur oder Plasmapotential benutzt. Die Erfahrungen mit Langmuirsonden haben gezeigt, daß Modifikationen der Sondenoberfläche durch Verunreinigungen oder durch Beschichtung zu signifikanten Veränderungen im Sondensignal führen können [5 – 16].Durch den Einsatz dieses Sensors sollen insbesondere jene Vorgänge, die zu einer lokalen oder generellen Verschlechterung der technologischen Schichteigenschaften führen, bereits in der Phase der Schichtentstehung erkannt und durch Variation der Prozeßparameter während der Schichtabscheidung vermieden werden. Eine solche sensorkontrollierte Prozeßsteuerung könnte den industriellen Einsatz der PACVD‐Technik auf eine breitere Basis stellen, da die gewünschten technologischen Schichteigenschaften bereits während des Prozesses über eine geeignete Prozeßführung beeinflußt werden können.

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